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反滲透膜常用的清洗方法及藥劑配方

來源:純水設(shè)備??????2019-07-04 11:36:46??????點擊:

純水設(shè)備http://m.creativeimagessc.com】反滲透膜元件的污染物

純水設(shè)備反滲透膜元件在正常運行一段時間后,會受到水中可能存在的懸浮或不溶性物質(zhì)的污染。常見的污染物有碳酸鈣垢、硫酸鈣垢、金屬氧化物垢、硅質(zhì)沉積物和有機或生物沉積物。

污染的性質(zhì)和程度與供水條件有關(guān)。污染發(fā)展緩慢,如果不及早采取措施,會在較短的時間內(nèi)損害膜元件的性能。

定期檢測系統(tǒng)的整體性能是確定膜元件污染的好方法。表中列出了常見污染物對膜性能的影響。

與上表相對應(yīng)的常用清洗液如下:

根據(jù)場地的情況進行分析,可以根據(jù)具體的條件進行具體的搭配。

02污染物去除

去除污染物可以通過化學清洗和物理沖洗來實現(xiàn),有時還可以通過改變操作條件來實現(xiàn)。一般來說,當發(fā)生下列情況之一時,應(yīng)進行清洗。

1. 在正常壓力下,若流量下降到正常值的10-15%;

2. 為了維持正常的出水流量,溫度修正后的水壓增加了10-15%;

3.出水水質(zhì)降低10-15%。鹽透過率提高10-15%;

4. 增加使用壓力10-15%;

5. 純水設(shè)備反滲透段之間的壓差顯著增大(可能沒有儀器來監(jiān)測這個信號);

常見污染物及其去除方法

1. 碳酸鈣垢

由于阻垢劑添加系統(tǒng)的失效或酸添加系統(tǒng)的失效,當水的pH值增加時,可能會沉積碳酸鈣。碳酸鈣尺度降水的發(fā)生應(yīng)盡可能早地發(fā)現(xiàn),防止晶體的生長表面的膜損傷,如早期發(fā)現(xiàn)的碳酸鈣,可以用來降低水pH3.0 ~ 5.0運行1 ~ 2個小時的方法。對于沉淀時間較長的碳酸鈣垢,應(yīng)采用檸檬酸清洗液進行循環(huán)清洗或隔夜浸泡。

注意:確保任何清洗液的pH值都不低于2.0,杯子可能會對反滲透膜元件造成損壞,尤其是在高溫下,高pH值不應(yīng)高于11.0。用氨來提高pH值,用硫酸或鹽酸來降低pH值。

2、硫酸鈣垢

三聚磷酸鈉溶液(參見上表中三聚磷酸鈉溶液)是將硫酸鈣垢從反滲透膜表面去除掉的最佳方法。

3、金屬氧化物垢

可以使用上面所述的去除碳酸鈣垢的方法,很容易地去除沉積下來的氫氧化物(例如氫氧化鐵)。

4、硅垢

對于不是與金屬化物或有機物共生的硅垢,一般只有通過專門的清洗方法才能將他們?nèi)コ?/span>

5、有機沉積物

有機沉積物(例如微生物粘泥或霉斑)可以使用上表清洗液3去除,為了防止再繁殖,可使用殺菌溶液在系統(tǒng)中循環(huán)、浸泡,一般需較長時間浸泡才能有效,如反滲透裝置停用三天時,最好采用消毒處理。

6、清洗液

清洗反滲透膜元件時建議采用上表所列的清洗液。確定清洗前對污染物進行化學分析十分重要的,對分析結(jié)果的詳細分析比較,可保證選擇最佳的清洗劑及清洗方法,應(yīng)記錄每次清洗時清洗方法及獲得的清洗效果,南通純水設(shè)備為在特定給水條件下,找出最佳的清洗方法提供依據(jù)。

對于無機污染物建議使用清洗液1。對于硫酸鈣及有機物建議使用清洗液2。對于嚴重有機物污染建議使用清洗液3。所有清洗可以在高溫度為40℃下清洗60分鐘,所需用品量以每100加侖(379升)中加入量計,配制清洗液時按比例加入藥品及清洗用水,應(yīng)采用不含游離氯的反滲透產(chǎn)品水來配制溶液并混合均勻。

清洗時將清洗溶液以低壓大流量在膜的高壓側(cè)循環(huán),此時膜元件仍裝壓力容器內(nèi)而且需要用專門的清洗裝置來完成該工作。

04 清洗純水設(shè)備反滲透膜元件的一般步驟

 

1、用泵將干凈、無游離氯的反滲透產(chǎn)品水從清洗箱(或相應(yīng)水源)打入壓力容器中并排放幾分鐘。

 

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2、用潔凈的水在清洗箱中配制清洗液。

3、將清洗液在壓力容器中循環(huán)1小時或預(yù)先設(shè)定的時間,對于8英寸或8.5英寸壓力容器時,流速為35~40加侖/分鐘 (133~151/分鐘 ) ,對于6英寸壓力容器流速為15~20加侖/分鐘 (57~76/分鐘 ) ,對于4英寸壓力容器流速為9~10加侖/分鐘 (34~38/分鐘 )

4、清洗完成以后,排凈清洗箱并進行沖洗,然后向清洗箱中充滿干凈的水以備下一步?jīng)_洗。

5、用泵將干凈、無游離氯的水從清洗箱(或相應(yīng)水源)打入壓力容器中并排放幾分鐘。

6、在沖洗反滲透系統(tǒng)后,在排放閥打開狀態(tài)下運行反滲透系統(tǒng),直到產(chǎn)品水清潔、無泡沫或無清洗劑(通常需15~30分鐘 ) 。

05 反滲透膜污染特征及處理方法

1、細菌污染

一般特征:脫鹽率可能降低、系統(tǒng)壓降明顯增加、系統(tǒng)產(chǎn)水量明顯降低;

清洗方法:pH102%三聚磷酸鈉溶液,0.8%EDTA四鈉(嚴重時更換為0.25%Na-DDBS),溫度40℃;0.1%NaOH0.03%SDSpH=11.5。

2、硫酸鈣污染

一般特征:脫鹽率明顯降低、系統(tǒng)壓降稍有或適度增加、系統(tǒng)產(chǎn)水量稍有降低;

清洗方法:pH10,2%三聚磷酸鈉溶液,0.8%EDTA四鈉(嚴重時更換為0.25%Na-DDBS),溫度40℃;有時也可用pH小于10NaOH水溶液清洗。

3、有機物沉淀

一般特征:脫鹽率可能降低、南通純水設(shè)備系統(tǒng)壓降逐漸升高、系統(tǒng)產(chǎn)水量逐漸降低;

清洗方法:pH10,2%三聚磷酸鈉溶液,0.8%EDTA四鈉(嚴重時更換為0.25%Na-DDBS),溫度40℃。

4、氧化物/氫氧化物(鐵、鎳、銅)污染

一般特征: 脫鹽率明顯下降、系統(tǒng)壓降明顯升高、系統(tǒng)產(chǎn)水量明顯降低

清洗方法:氨水調(diào)pH42%的檸檬酸溶液,溫度40℃,有時也可以用pH2-30.5%)的鹽酸水溶液清洗。

5、無機鹽沉淀物污染

一般特征: 脫鹽率明顯下降、系統(tǒng)壓降增加、系統(tǒng)產(chǎn)水量稍降

清洗方法:2%檸檬酸溶液,氨水調(diào)pH4,溫度40℃,也可用pH2-30.5%)的鹽酸水溶液清洗。

6、各種膠體(鐵、有機物及硅膠體)污染

一般特征: 脫鹽率稍有將低、系統(tǒng)壓降稍有上升、系統(tǒng)產(chǎn)水量逐漸減少。

清洗方法:硫酸調(diào)pH10,0.2%三聚磷酸鈉STTP溶液,溫度40℃;有時也可以用pH小于10NaOH水溶液清洗。

06 反滲透膜清洗幾種常用配方

清洗配方一

1%-2%檸檬酸溶液或0.4%HCl溶液,適用于鐵污染及碳酸鹽結(jié)晶污堵;

清洗配方二

0.2%NaClO+0.1%NaOH溶液,適用于清洗由有機物及活性生物引起的膜組件的污染;

清洗配方三

0.3%H2O2+0.3%NaOH溶液,適用于清洗由glutamic acid發(fā)酵液引起的膜組件的污染;

清洗配方四

1%甲醛溶液,適用于細菌污染的超濾;

清洗配方五

HNO30.5%水溶液,南通純水設(shè)備適用于電泳漆處理過程中磷酸鉛對膜組件造成的污堵(此清洗必須在其他常規(guī)化學清洗之后進行。);

清洗配方六

20%Na2CO3、7%Na3PO43%NaOH、0.5%EDTA,主要用于膠體污染物造成的膜污染;

清洗配方七

9%的十二烷基苯磺酸鈉、9%的表面活性劑、0.4%NaOH0.15的無水碳酸鈉、11%的磷酸鈉、10%的硅酸鈉,清洗時需注意pH的控制,有些膜不適用于高pH清洗液的清洗,要慎重選擇,主要用于清洗含油廢水所造成的膜污染;

清洗配方八

3%H3PO4、0.5%EDTA-2Na、0.5%LBOW專用清洗劑,主要用于清洗蛋白質(zhì)和油脂污染物造成的污染。

清洗配方九

20%H2SO4,主要用于硅垢結(jié)晶造成的污染。

RO膜元件是反滲透設(shè)備系統(tǒng)中重要的部分,其日常維護的好壞直接影響到系統(tǒng)出水水質(zhì)的好壞,這里對于反滲透膜的清洗方法加以概述,系統(tǒng)說明反滲透膜在運行中可能出現(xiàn)的污染物以及相對應(yīng)的清洗方法。公司可根據(jù)客戶要求制作各種流量的純水設(shè)備,超純水設(shè)備及軟水處理設(shè)備。 實驗室水處理設(shè)備,南通純水設(shè)備。